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인용(레퍼런스)-피인용

인용 관계 데이터 지도

AppleAR glass를 분야의 예시로, PatentPia GoldenCompass를 활용한 인용 관련 콘텐츠를 제공합니다. 위 활용 지도의 각 항목에 결합되어 있는 사슬(링크) 표시를 클릭하면, 예시 화면이 새 창으로 열립니다.

인용 데이터의 구분

개별 특허 데이터에는, 논문과 마찬가지로, 그 특허에 대한 레퍼런스(backward citation) 문헌 번호가 포함되어 있습니다. 레퍼런스 데이터를 인용 데이터라고 합니다.

인용 방향 : 선행 레퍼런스 문헌 vs. 후행 피인용 문헌

인용 방향에는 i) 자신이 인용하는 선행 레퍼런스 문헌으로 구성되는 전방 인용(backward citation) 문헌과, ii) 자신을 레퍼런스로 인용하고 있는 후행 피인용 문헌이 있습니다.
P1 특허의 레퍼런스에 선행 문헌인 P01, P02가 있는 경우, P01 및 P02는 P1의 레퍼런스/전방 인용(backward citation)가 됩니다. 한편, P2의 레퍼런스에 P1이 있는 경우, P2는 P1의 후방 피인용 문헌이 됩니다.

인용 발생 원인

인용(레퍼런스)의 발생 원인은, i) 출원인에 의한 IDS, ii) 심사관에 의한 인용, ii) 심사관 OA(office action) 과정에서의 인용, iv) 문헌 내 인용, v) 특허청에 의한 선행 기술 조사에 의한 인용 등 크게 5가지가 있습니다. 미국 특허에서는 i) ~ iv)가 발생합니다.

인용-피인용 특허 간의 소유자 일치 여부

자기 특허와, 자기 특허의 레퍼런스의 권리자가 일치하는 경우를 자기 인용(self reference)라고 합니다.
P1의 레퍼런스 특허 P0, P1의 피인용 특허 P2가 모두 자기 인용 관계에 있다면(P2는 P1을 인용(레퍼런싱)하고, P1은 P0를 인용하고 있음), P0, P1, P2는 서로 기술적 관련성이 높다고 볼 수 있습니다. 기술적 관련성 높으면서도, 시간적으로 순차적으로 이격되어 있는 특허셋은 R&D 연속성과 밀접하게 관련이 있습니다. 즉, P1는 P0의 개량-개선-연장-확장-응용-연결 관계에 있는 기술을 포함하고 있을 가능성이 높으며, P2는 P1의 개량-개선-연장-확장-응용-연결 관계에 있는 기술을 포함하고 있을 가능성이 높기 때문입니다.
self reference 또는 self forward citation 관계에 있는 특허셋은 R&D 연속성(R&D continuity)이 높게 되고, R&D 연속성이 높은 특허셋은 통상적으로 기업의 제품에 반영되는 경우가 많습니다. 특허 중에서 제품에 강하게 반영되는 특허가 중요한 특허라고 볼 수 있습니다. Self reference/self forward citation 관계가 강한 특허는 국내 및 해외 특허 패밀리가 많은 특허와 더불어, 기업의 제품 전략에 반영된 특허를 추정해 내는데 사용될 수 있습니다.

인용 국가 범위

특정 특허(P1)의 인용(레퍼런스) 특허(P0)는 타국의 특허도 될 수 있습니다. 이 경우, 타국의 특허(P0) 입장에서는 자국이 아닌 후출원 특허(P1)에 의해서 인용을 받았다고 볼 수 있습니다. 이와 같인 인용(레퍼런스)-피인용 특허의 국가(특허청)가 다른 경우, 해외 인용(레퍼런스)-피인용이라고 합니다.

특별한 특허에 의한 인용-피인용

특별한 특허에는 i) 매입/실시권 설정 특허, ii) 소송/심판 등 분쟁 특허, iii) 표준/FDA 승인에 사용된 특허, iv) NPE 또는 고위험 권리자가 보유하고 있는 특허, v) self reference/forward citation이 많은 특허, vi) 피인용 급증 특허, vii) 국내/해외 특허 패밀리가 많은 특허 등이 있습니다. 이러한 특별한 특허와 인용(레퍼런스)-피인용 관계가 있는 경우, 특별한 주의를 요할 수 있습니다.
예를 들어, 자신의 특정한(기술, 제품 등과 관련된) 특허셋의 선행 인용(레퍼런스) 특허셋 중에 i) ~ iv)의 특허가 많거나, 특정 권리자의 특허셋에 중첩된 경우에는, 자신의 특정한 영역(기술, 제품 등)은 특허적 리스크가 존재할 가능성이 높습니다.
반대로 , 자신의 특정한(기술, 제품 등과 관련된) 특허셋의 후행 피인용 특허셋 중에 i) ~ iv)의 특허가 많거나, 특정 권리자의 특허셋에 중첩된 경우에는, 자신의 특정한 영역셋은 기술/특허 비즈니스의 기회가 발생할 가능성이 높습니다.
(참고)특별한 특허에 의한 피인용은 PatentPia Analytics를 통해서 구현됩니다.
[Link] 링크 클릭 후, ‘자유 분석’ 버튼을 클릭해 보세요.

특허 인용 데이터 처리 프로세스

PatentPia 인용 콘텐츠의 특징

집단 입력 대응 인용 콘텐츠

PatentPia GoldenCompass 인용 콘텐츠는 개별 특허 단위를 넘어 특허 집합 기준의 인용-피인용 콘텐츠를 제공합니다. 특허 집합 기준에는 i) 기업, ii) 키워드, iii) 기술 분야/특허 분류, iv) 연구자 , v) 기업의 키워드/기술 분야/특허 분류, vi) 연구자의 키워드/기술 분야/특허 분류에 대응되는 특허셋이 있습니다. 특허 집합 기준의 인용-피인용 콘텐츠는 글로벌 관점에서도 혁신적인 데이터 서비스로, 다양한 활용성을 가집니다.

세분화된 인용

PatentPia GoldenCompass 인용 콘텐츠는 i) 전체 vs. 심사관 vs. 심사관 OA, ii) 국내 vs. 해외, iii) 일반 vs. 자기(self), iv) 총량 vs. 특허당 등으로 세분화되어 있습니다. 그리고, PatentPia Analytics에서는 특별한 특허에 의한 인용(레퍼런스) 및 피인용을 분석할 수 있습니다.

비즈니스 지향의 인용 콘텐츠

PatentPia GoldenCompass 인용-피인용 콘텐츠를 활용하면,
i) 기술력 비교의 가장 객관적 데이터인 인용 데이터를 활용한 기업 간 기술력 비교,
ii) 특정 분야에서 피인용 총량, 피인용 급증, 또는 특허당 피인용을 많이 받은 기업 등을 대상으로 한 M&A/투자/협업 대상 기업 발굴,
iii) 특정 분야에서 피인용 총량, 피인용 급증, 또는 특허당 피인용을 많이 받은 연구자 등을 대상으로 한 HR/공동 연구 대상 연구자 발굴
등과 같은 기술/특허 비즈니스 기회를 발굴할 수 있습니다.

리스크 관리 지향의 인용 콘텐츠

PatentPia GoldenCompass 레퍼런스 콘텐츠를 활용하면,
i) 특정 분야에서 인용(레퍼런스) 총량, 인용 급증, 또는 특허당 인용을 많이 받은 선행 특허 보유 기업(특히, NPEs)를 중심으로 하는 특허 리스크 인지
가 가능합니다.
PatentPia Analytics 레퍼런스 분석을 활용하면,
i) 특정 분야에서 인용(레퍼런스) 총량, 인용 급증, 또는 특허당 인용을 많이 받은 선행 특허 보유 기업(특히, NPEs)를 중심으로 하는 특허 리스크 인지
가 가능합니다.
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PatentPia에서의 인용-피인용 데이터 활용

GoldenCompass 분석 서비스

PatentPia GoldenCompass 에서는 특허 집합 기준의 인용-피인용 콘텐츠를 제공합니다. 특허 집합 기준에는 i) 기업, ii) 키워드, iii) 기술 분야/특허 분류, iv) 연구자 , v) 기업의 키워드/기술 분야/특허 분류, vi) 연구자의 키워드/기술 분야/특허 분류에 대응되는 특허셋이 있습니다.

Analytics 서비스

PatentPia Analytics에는 입력된 특허셋의 인용(레퍼런스) 특허셋 및 피인용 특허셋에 대한 100 여가지 이상의 분석 콘텐츠를 제공해 줍니다.
Analytics의 인용-피인용 분석 콘텐츠에는
i) 인용-피인용 동향 뿐만 아니라,
ii) M&A/HR/특허 매입/수익화 등과 같은 기술/특허 비즈니스 기회의 발견,
iii) 특허 리스크의 조기 인지 등과 같은 고급 인용-피인용 분석이 제공됩니다.
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Search 서비스

PatentPia Search에서는 다양한 종류의 피인용수를 검색 조건으로 입력하여, 조건에 맞는
i) 일반 특허 검색/이벤트(거래/소송/심판 등) 특허 검색
ii) 이벤트(거래/소송/심판 등) 검색을
처리하는 기능을 포함하고 있습니다.

기타 서비스